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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统
产品规格:拼接精度≦±3.5 nm套刻精度≦±5 nm JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统
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日本电子JBX-6300FS 电子束光刻系统
≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的
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日本电子JBX-3050MV 电子束光刻系统
产品规格:拼接精度≦±3.8 nm套刻精度≦±7 nm JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统
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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统
µm×1000µm)写场内位置精度≦±9nm(场尺寸为1000µm×1000µm)定位DAC20位扫描速度zei大 100MHz JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界
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日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
程序的追加授权 zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。JBX-8100FS 圆形
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JIB-4610F聚焦离子束双束(FIB
仪器简介:JIB-4610F是集成扫描电镜和聚焦离子束于一身高性能仪器。电子光学系统采用场发射电子枪,对进行实时研磨监控。该仪器又是一个微区观察、样品分析、微区研磨的集合体,应用范围广泛
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软X射线分光谱仪
极限可达20ppm;还可以进行元素价态分析。将扫描电镜从以侧重图像为主的仪器变身为图像、成分、价态均可清晰表达的超级分析仪器。也将电子探针的分析能力大幅度提升。 电子光学仪器上发射的电子束与样品发生
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日本电子TP-99010FDR 粉末供应装置
该台式送粉器能稳定地供给亚微米~100μm左右的微细颗粒。通过载气输送微细粉末。还能够输送有着高聚集特性的1μm~纳米尺寸的微细颗粒。送粉速度在1~50g/分左右。 *自动控制速度(选配)为5g
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日本电子JMS-MT3010HRGA INFITOF 飞行时间质谱仪
的Multi-Turn技术,在只有20cm见方的质量分析器内,离子的zei长飞行距离高达200m。在科研领域的zei前沿,对微量气体成分的现场原位分析的需求越来越高,日本电子为满足科研人员这一愿望
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大气压扫描电镜
仪器种类钨灯丝 JASM-6200 设计亮点1. 大气压下对样品直接观察2.样品无需任何处理,真正的原貌观察3.特别适用领域:生物样品、水泥、含油样品等
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